低溫等離子準(zhǔn)輝光放電表面處理模組
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| 編號 | 內(nèi)容 | 規(guī)格參數(shù) |
|---|---|---|
| 1 | 設(shè)備尺寸 | 1724(W)×1046(H) ×1140(D)mm |
| 2 | 電源 | AC220V（±10%） |
| 3 | 功率 | 5000VA（MAX） |
| 4 | 寬幅 | 200-500mm（可定制） |
| 5 | 重量 | 200kg |
| 6 | 處理材料的高度 | 小于6mm |
| 7 | 使用溫度范圍 | -10℃～+40℃（不結(jié)冰） |
| 8 | 相對濕度 | <90%HR以下（不凝露） |
| 9 | 大氣壓力 | 1.013×105pa |
| 10 | 貯存環(huán)境溫度 | －25℃~+55℃ |
| 11 | 相對濕度 | <90%（40℃） 大氣 |
| 12 | 壓力 | 1.013×105pa |
| 特點(diǎn)：大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現(xiàn)均勻的霧狀放電，放電的電流電學(xué)特征為單脈沖，放電溫度為室溫。大氣壓輝光放電可以處理各種高分子材料、生物材料、金屬材料、紡織品材料、異型材料。設(shè)備成本低、處理的時(shí)間短、可加入各種氣氛，氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。 可應(yīng)用于表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學(xué)合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和的表面處理。電子和離子的能量可達(dá)10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。 主要應(yīng)用于表面清洗、改善復(fù)合材料粘附性、細(xì)胞培養(yǎng)皿,組織培養(yǎng)皿的親水、心臟冠狀動脈支架、生物傳感器的表面處理。 |
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