等離子清洗機技術特點是：它不分處理對象，能夠處理不同的基材，不論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都能用等離子體很好地進行處理，因此，等離子清洗機特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。等離子清洗機還能夠選擇性的對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。
等離子清洗機整個清洗流程如下：
１、被清洗的工件送入真空式并加以固定，啟動運行裝置，開始排氣，使真空室內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。通常排氣時間大約需要幾分鐘。
２、向真空室內引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內壓強穩(wěn)定。按照等離子清洗機清洗材質的不同，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。
３、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，等離子清洗機通過放電而發(fā)生等離子化和產生等離子體，讓在真空室產生的等離子體完全籠罩住被處理工件，等離子清洗機開始清洗作業(yè)，通常清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十分鐘不等。
４、清洗完畢后切斷等離子清洗機電源，并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。
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